等离子体基脉冲偏压沉积膜的氢分布和氢含量-无机材料学报.PDF

第 卷 第 期 无 机 材 料 学 报 , 年 月 , 文章编号 一 一 一 等离子体基脉冲偏压沉积 膜 的氢分布和氢含量 夏 立 芳 , 孙 明仁 哈 尔滨 工 业 大 学 信 箱 哈 尔滨 工 业 大 学 信 箱 , 哈 尔滨 摘 要 用核反应分析方法 , 对等离子体基脉冲偏 压沉积 膜 的氢分布和 氢含量进 行 了 较 系统 的研 究 结果表 明, 用等离子体基脉冲偏压沉积技术可获得较低氢含量 的 膜 , 其 , , , 氢含 量 范 围约为 、 且氢沿膜厚是均匀 分布 的 随等离子体密度及 离化率 降低 膜 的氢含量增 加 , 荷 能离子对生 长表 面 的轰击具有较强 的析氢作用 , 工作气体 中引入 氢 气促进 膜 中氢 的析 出 关 键 词 膜 氢分布 氢含量 中图分类号 文献标识码 引言 类金 刚石碳膜 简称 膜 具有一 系列优 异 的性 能, 影 响性 能 的基本 因素是其 内部键 态 , 以烃类气体或蒸汽 为碳源制备 的 膜均 为含氢 膜 , 其 中氢是影 响其 内部键 结 构 和 性 能 的重要 因素 文献 , 开 发 了大面积 低温 沉积 膜 的等离子体基脉 冲偏 压 沉 积 技术 , 但 以该技术沉积 的 膜 中氢 的分布和 含 量 尚待研 究, 本文用 核反应 分析 简称 方法 对等离子体基 脉 冲偏压 沉 积 膜 的氢分布和 氢含量进 行 了较 系统 的研 究 实验 方法 样 品制 备 膜样 品制备在 自行研制 的 一 型等离子体基 离子注 入 装置上 进 行 , 关于 试验 装 置 在 文 献 中 已有介 绍 , 基底 材料 为 , 试 样 经 机 械 磨 削并抛 光 至 表 面 粗糙度 科 抛 光 试 样 经 分析 纯 丙 酮 、 酒精介