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抛光液的pH值对抛光元件表面粗糙度的影响

第 卷第 期 光 学 技 术 ! # 3456!046# 年 月 $$% ’()*+,-).+/0*12. 785 $$% 9 !!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!! 文章编号: ( ) :$$;:=$$%$#;$%;$! 抛光液的 值对抛光元件表面粗糙度的影响 ! : : : : 韩敬华 ,冯国英 ,杨李茗 ,刘义彬 ,朱海波 ,刘民才 ,王绍鹏 ( 四川大学 电子信息学院,成都 ; 成都精密光学工程研究中心,成都 ) :6 %:$$%# 6 %:$$#: 摘 要:减小大孔径超光滑玻璃表面的粗糙度是提高抛光质量的关键。实验研究了抛光过程中 /值对抛光元件 表面粗糙度的影响。结果表明:抛光液的 值对抛光元件表面粗糙度有较明显的影响;抛光过程中抛光液的 值会 / / 随抛光时间而变化;抛光过程中,当保持抛光液处于微碱状态,且离抛光粉的等电离点较远时,抛光元件表面具有较小的 粗糙度。 关 键 词:抛光;/值;表面粗糙度;水解;等电离点 中图分类号: 文献标识码: )1:: , ’ #$%’()*%’+%,-(.$% -),$’ )*1, 23)*%,*-’ ! / 0 ! ! .$%4-*$’%,,-(.$% -),$’ +-5 -’%’.,*4(3+% / ! / ! : : , , , !#$%()*+ ,-#..*/(% 1#.2%(3% 2451%(6% ’ 0 ’ ’ ’ : : , , 7!5!+%(6/ 2458%(9+% :#.;)+/(= ’ ( ,

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