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电浆原理介绍简报
電漿原理介紹簡報 Presented By Woody 11/06/2007 簡報大綱 一.原理介紹 二. ER設備介紹 三.ER電漿技術應用 Plasma原理介紹 什麼是電漿？ 氣體分子因光、放射線、電 子等具有能量的粒子衝撞而 激發、離子化電子衝撞所致( 氣體激發及離子化的現象稱 為放電) ，因放電而激發及離 離子 子化的氣體(ionized gas)中， 有中性分子、原子、各種離 電子 光子 子、電子，此為「電漿狀 態」。像這樣「氣體被離子 化後所產生的物質狀態」與 傳統的物質三態（即固、 液、氣態）明顯不同，被科 自由基 中性原子 學家稱為物質的第四態，科 學家估計宇宙中百分之九十 九的物質是以電漿狀態存 在。 電漿應用 第四態 固態 → 液態 → 氣態 → 電漿 等離子 加熱 加熱 解離 Plasma Type by Thermal Equilibrium Plasma Type Thermal Plasma Non-thermal (Cold) Plasma Te = Ti = Tg A Weakly ionized gas TeTi = Tg High temperature Related Low temperature For Fusion …. For Semiconductor … 電漿原理介紹 Gas MFC Inlet 解離反應 e-+X2 2X+e- - * - 激發反應 e +X X +e -
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