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光激发荧光谱术分析Co-Cr-Al(Y)纳米涂层的氧化Ⅱ.Al2O3膜应力测量与分析
第39卷 第10期 金属学跋 Vol·39No．10
Oct．2003
ACTAMETALLURGICASINICA PP-1060—1064
2003年10月1060—1064页
出
光激发荧光谱术分析Co—Cr—AI(Y)纳米涂层的氧化
II．A1203膜应力测量与分析
彭晓 王福会
(中国科学院金属研究所金属腐蚀与防护国家重点实验室，沈阳110016)
D．R．Clarke
ofCaliforniaatSanta
of Barbara，CA93106—5050)
(MaterialsDepartment，CollegeEngineering，University
摘 要
应力，获得如下结果： (1)残余应力随氧化温度升高而增大；(2)暂态氧化出现的区域应力值明显低于无暂态氧化的区域；(3)
两种涂层1000℃下形成的氧化膜中的残余应力相差不大，但在1100和1200℃下，含Y涂层形成的氧化膜中的残余应力比不
含Y中的高．对实验结果进行了分析．
cr
关键词光激发荧光谱术，A1203，残余应力，磁控溅射CoAl(Y)，纳米涂层
中图法分类号TGl74．444文献标识码 A 文章编号 0412—1961(2003)10一1060一05
PHoTo—STIMULATEDLUMINESCENCE
ANA THEOXIDATIoNoF
PIC L-YSISOF
sPUTTERED
Co-Cr—AI(Y)NANoco觚’INGS
II．ResidualStressesandMechanicalBehaviorof Scale
A1203
PENGXiao．wANGFuhui
State LabforCorrosionandProtectionof ofMetal Chinese ofSciences
Key Metals，InstituteResearch，TheAcademy
110016
Shenyang
D．R．Clarke
Materials of ofCaliforniaatSanta 93106—5050
Department，CollegeEngineering，University Barbara，CA
Correspondent：PENG
HundredTalents Chinese Sciences
by of
Supportedby“One Plan”sponsoredAcademy
received2002—12—02．inrevisedform2003—03—24
Manuscript
ofaluminascaleformedat 100and
ABSTRACTResidualstresses 1000．1 1200℃on
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