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侯晓波,查良镇范垂祯,许生
第 6 期 真 空
1999 年 12 月 V acuum V acuum T echno logy and M aterial 1
( )
文章编号: 1999
反应溅射制备 SiO2 膜的问题及进展
侯晓波, 查良镇 范垂祯, 许 生
( ) ( ( ) )
清华大学电子工程系, 北京 100084 豪威科技 集团 有限公司, 广东 深圳 518057
M a in Problem s and D evelopm en ts in D eposition of SiO2 by Reactive Sputter ing
,
HOU X iao bo CHA L iang zhen
( , 100084, )
T sing hua U n iversity B eij ing Ch ina
,
FAN Chu i zhen XU Sheng
(H IV A C T ech (G roup ) CO. ,L TD . S henz hen 518057, Ch ina)
,
Abstract: R F m agnetron sputtering has been app lied to SiO 2 depo sition fo r a long tim e but fo r
econom ic m ass p roduction of film coating on large size its use is lim ited due to the h igher co st and
.
low er efficiency D ram atic developm ents to study and so lve the key p roblem s in reactive sputtering
, , .
techno logy such as arcing and disappearing anode have been ach ieved during recent years It
m akes reactive sputtering extend to depo sition of insulating film , including SiO 2 , and becom e a re
m arkable trend in p roducing th in dielectric film. T he m ain p roble
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