羰基钨的应用及研究重点-中国表面工程.PDFVIP

第 24 卷 第 1 期 中 国 表 面 工 程 Vol.24 No. 1 20 11 年 2 月 CHINA SURFACE ENGINEERING February 20 11 第 1 期 张小锋等 ：羰基钨的应用及研究重点 49 doi: 10.3969/j.issn.1007−9289.2011.01.017 羰基钨的应用及研究重点* 张小锋 1 ，刘维良 1,2 ，郭双全 3 ，葛昌纯 2,3 (1. 景德镇陶瓷学院 材料科学与工程学院 ，江西 景德镇 333000 ；2. 北京科技大学 核材料研究所 ，北京 100083 ； 3. 西南交通大学 材料科学与工程学院 ，成都 610031) 摘 要：羰基钨是金属钨与羰基所形成的配合物 ，它能在较低的温度下挥发和解离 ，通过控制羰基钨的热解方式、解 离时间、气氛等可以制备出各种新型材料 ，羰基钨在新材料的合成和制备中发挥着十分重要的作用 。文中介绍了利用 羰基钨制备微米、纳米级粉体、薄膜、异形件的研究进展 ，阐述了羰基钨热解的原理，并对羰基钨在羰基钨复合膜材 料、大型钨器件等方面的应用进行了展望。 关键词：羰基钨 ；钨粉 ；钨涂层 中图分类号：O614 文献标识码：A 文章编号：1007–9289(20 11)0 1–0073–06 The Application of Tungsten Hexacarbonyl and Research Emphases 1 1, 2 3 2, 3 ZHANG Xiao–feng , LIU Wei–liang , GUO Shuang–quan , GE Chang–chun (1. School of Materials Science and Engineering, Jingdezhen Ceramic Institute, Jingdezhen Jiangxi 333001; 2. Institute of Nuclear Materials, University of Science and Technology Beijing, Beijing 100083; 3. School of Materials Science and Engineering, Southwest Jiaotong University, Chengdu 610031) Abstract: Tungsten hexacarbonyl is a coordination compound consisting of tungsten and carbonyl. It can be evaporated and dissociated at a very low temperature. Tungsten hexacarbonyl is very important to prepare advanced material by controlling dissociation way, time, atmosphere, and so on. In this paper, the recent progress of tungsten powder, films and device is reviewed. The principle of thermal dissociation of tungsten hexacarbonyl is described. Besides, the future development of tung