两种二硼化镁超导薄膜布图布线的湿法刻蚀技术.pdfVIP

两种二硼化镁超导薄膜布图布线的湿法刻蚀技术／周章渝等 ·7 ‘ TwoPatterningTechniquesforSuperc0nductingM gB2FilmsbyW etEtching ZHOU Zhangyu。。。YANGFashun ，YANGJian ，WANG Song ， DENG Chaoyong～．FU Xinghua。 CollegeofScience，GuizhouUniversity，Guiyang550025；2 KeyLaboratoryofM icroNano IechnologyofGuizhouProvince， Guiyang550025) Abstract EffectivelypatterningofMgBethinfilm isaverycriticalsteptotheapplicationofsuperconducting filmsinsuDerconductingelectronics．TwopatterningtechniquesforsuperconductiveMg filmsbywetetchingwere Dresented．InthefirsttechniquetheprecursorboronfilmswerepatternedbyusingH2()2asetchant．Thenthesamples wereannealedinmagnesium vaporinatantalum crucible，andthepatternedboronfilmsweretransformedtosupercon— ductingMgBefilms．InthesecondtechniquetheMg filmswerepatterneddirectlybyamixtureofhydrofluoricacid (HF)andnitricacid (HNO )solutions．ThepatternedMg filmswith ratherhigh resolutionwerefabricatedSUC— cessfullybyusingabovetechniques．Thetransitiontemperature( )ofthepatternedMgB2filmsisaround38K and criticalcurrentdensity(J)isabout1×10A／cm2． Keywords MgBesuperconductivefilms，patterning，wetetching 两种二硼化镁超导薄膜布 图布线的湿法刻蚀技术 周章渝 ～，杨发顺 一，杨 健 ，王 松 ～，邓朝勇 。，傅兴华 (1 贵州大学理学院，贵阳 550025；2 贵州省微纳 电子与软件技术重点实验室，贵阳 550025) 摘要 超导薄膜实现布图布线Jc．艺是制备超导电子元件的必要步骤。报道了两种二硼化镁超导薄膜布图布 线的湿法刻蚀技术：一种是先利用双氧水(H ()z)刻蚀前驱体硼薄膜，然后将刻蚀的样品放入钽坩埚 中在镁蒸气下高 温退火，实现 了对超导薄膜二硼化镁 (MgB,)布图布线的刻蚀；另一种是选用氢氟酸(HF)和硝酸(HN()。)的混合溶液 直接在二硎化镁超导薄膜上进行图形刻蚀。通过上述两种方法刻蚀出的Mg 薄膜图形精确度高，超导转变温度 都在 38K 以上 ，临界 电流 J约为 l×l0A cm 。 关键词 MgB2超导薄膜 布图布线 湿法刻蚀 中图分类号：TN705 文献标识码 ：B patterning oftheMgB2filmswererealizedbyreact