三氯氢硅合成的热力学.pdfVIP

2012年 9期 有色金属 (冶炼部分)(http：／／ysy1．bgrimm．cn) ·55 · doi：10．3969／j．issn．1007-7545．2012．09．015 三氯氢硅合成的热力学 彭如振 ，俞小花 ，谢刚 ，姚云 (1．昆明理工大学 冶金与能源工程学院，昆明 650093；2．云南冶金集团股份有限公司技术中心，昆明 650031) 摘要 ：应用 Iactsage软件研究三氯氢硅合成的复杂化学反应 ，绘制了体系中存在的8个化学反应的 △ T图。分析 了当反应达到平衡 ，在 0．01MPa、0．05MPa和 0．1MPa以及进料 比XHcl／xs为 1、3和 6 时，气相平衡组分分布与温度 的关系 。讨论 了三氯氢硅产率随温度 、压强及进料 比xHa／Xs。的变化情况 。 结果表明，低温、高压和一定进料 比X一 ／琏。对三氯氢硅合成过程有利。 关键词 ：三氯氢硅 ；热力学；产率 ；化学平衡 中图分类号 ：TF0l；TN304．1 2 文献标识码 ：A 文章编号 ：1007—7545(2012)09—0055-05 ThermodynamicStudyonTrichlorosilaneSynthesis PENG Ru—zhen ，YU Xiao—hua ，XIE Gang ，YAO Yun (1．FacultyofMetallurgicalandEnergyEngineering，KunmingUniversityofScienceandTechnology，Kunming650093，China 2．TechnologyCenterofYunnanMetallurgyGroupCo．，Kunming650031，China) Abstract：Thecomplexchem icalreactionsoftrichlorosilanesynthesiswereinvestigatedbym．eansofther— modynamicsoftwarefactsage．Diagramsoffortheeightchemicalreactionsinthissystem versustempera— turewereplotted．W henthereactionreachedequilibrium ，therelationshipbetweengasphasecompositions andtemperaturewasanalyzedatHC1／Simolarratioof1，3and6underthepressureof0．01MPa，0．05 M Paand0．1MPa。respectively．Thevariationoftrich1oros订aneproductivitywith temperature，pressure andHC1／Simolarratiowerediscussed．Theresultsshow thataIowertemperatures，ahigherpressures andasuitableHC1／Simolarratiohaveapositiveeffectonthetrichlorosilanesynthesisprocess． Keywords：trich1orosilane；thermodynamics；productivity；chemicalequilibrium 目前 ，多晶硅的生产主要是用氢气还原三氯氢 体系的研究较多 ，而对三氯氢硅合成体系的报道较 硅 (改 良西门子法)，该方法生产 的多 晶硅产量 占总 少 。因此，本文对三氯氢硅 的合成过程进行热力学 产量 的76．7 _l一 ，三氯氢硅理论单耗约为 5t，但 分析，从理论上分析了影响三氯氢硅产率的因素 ，为 由于各种因素影响 ，实际消耗远高于此值 ，装置运行 三氯氢硅 的工业化生产提供理论依据 。 初期可达 20t以上 ，国内较好 的能到 6．5tl3]。三