学校实验室场所安全卫生管理要点.pptVIP

學校實驗室場所安全衛生管理要點 大門外側張貼「國立臺灣大學實驗室緊急事故聯絡表」 大門內側張貼「國立臺灣大學校總區職業災害通報及聯絡圖」 新進人員(研究生)需接受三小時之安全衛生教育訓練 對於室內工作場所，學校應依規定設置足夠人員使用之通道，應有適用其用途之寬度，其主要人行道不得小於一公尺。 自路面起算二公尺高度之範圍內，不得有障礙物，但因工作之必要，經採防護措施者，不在此限。 貯存高壓氣體時，貯存周圍二公尺內不得放置有煙火及著火性、引火性物品。 可燃性氣體、有毒性氣體及氧氣之鋼瓶，應分開貯存。 容器應保持在攝氏四十度以下。 對工作人員及學員生於高差超過一?五公尺以上之場所工作時，學校應設置使人員安全上下之設備。 * 國立臺灣大學校總區職業災害通報及聯絡圖(草案) 95.3.修訂版 通報 處理 尋求協助 駐警隊 3366 - 9110 保健中心 3366 - 9595 環安衛中心 3366 - 2002 總值日官室 3366 - 9119 實驗場所負 責人 系所主任 生輔組 3366 - 2048 學務長 3366 - 1248 家屬 院長 校長 3366 - 2000 衛生署疾病管制局 2653 - 1446 原子能委員會 8231 - 7250 北市勞檢處 2596 - 9998 北市環保局 2720 - 6301 北區毒災應變諮詢中心 0800 - 057 - 119 陸軍化學兵實驗所 03 - 365 - 5485 消防局 119 台大醫院急診室 2356 - 2264 榮總毒化物諮詢中心 2871 - 7121 三軍總醫院 8792 - 3311 分機 88606 發現 職業災害 總務長 3366 - 2233 總務處 3366 - 2232 半導體製造業各製程潛在危害暴露 ˇ ˇ ? ? ˇ ? ? ˇ ? ˇ 蝕刻工程 ˇ ˇ ? ? ˇ ? ? ˇ ˇ ˇ 氣相沉積 ˇ ˇ ? ? ? ˇ ? ? ˇ ˇ 離子植入 薄膜工程 ˇ ˇ ? ? ? ? ˇ ? ? ? 光阻/顯影 ? ˇ ? ˇ ? ? ? ? ? ? 曝光 微影工程 ˇ ˇ ˇ ? ? ? ? ˇ ? ˇ 高溫爐管 ˇ ˇ ? ? ? ? ˇ ˇ ? ? 化學槽 擴散工程 ? 噪音 高溫 UV RF 游離輻射 有機溶劑 酸鹼 金屬 刺激性/有害氣體 ? 人因工程危害 物理性危害 化學性危害 ? 半導體製造業作業環境造成危害來源主要分成三大類： A.酸液： 醋酸、鹽酸、硝酸、磷酸、硫酸、氫氟酸等六種。 B.溶劑： 丙酮、2-甲氧基乙醇、乙酸正丁酯、過氧化氫、甲醇、異丙醇、甲苯、 三氯乙烯、三氯乙烷、二甲苯、 乙二醇單甲醚醋酸酯（ethylene glycol monomethyl ether acetate）、 HMDS（hexamethyldisilazane）等十二種。 C.反應氣體： 氯化氫、砷化氫、三氟化硼、乙硼烷、二氯矽烷、磷化氫、三氯化硼、 矽烷、六氟化硫、氧氯化磷、三氟化氮等十一種。 *