甲烷浓度对等离子喷射金刚石厚膜生长稳定性的影响.pdfVIP

第41卷 第10期 金属学跋 Vbl．41No．10 ACTAMETALLURGICASINICAOct．2005 2005年10月1091--1094页 PP．1091—1094 甲烷浓度对等离子喷射金刚石厚膜生长稳定性的影响 陈荣发-，。) 左敦稳·) 李多生-) 相炳坤·) 赵礼刚-) 王珉，) 1)南京航空航天大学机电学院，南京210016 2)扬州大学机械工程学院，扬州225009 摘 要 采用高功率直流电弧等离子体CVD工艺制备了不同厚度的无裂纹自支撑金刚石厚膜．实验中观察到在金刚石厚膜生 长过程中出现了形貌不稳定性，其程度随甲烷浓度的不同而变化．从理论和实验两个方面对这种不稳定性进行了讨论，认为直流电 弧等离子体的高温造成碳源高饱和度是生长不稳定性的根本原因．实验结果表明，在沉积金刚石厚膜时，为了稳定地获得高质量的 厚膜，甲烷浓度不宜过高． 关键词 金刚石厚膜，生长稳定性，甲烷浓度，直流等离子喷射，化学汽相沉积 中图法分类号TGl74．442 文献标识码A 文章编号0412—1961(2005)10—1091一04 EFFECTSoFMETHANECoNCENTRj气TIoNoN GRoWTHSTABILITYoFTHICKDIAMoND FILMPREPAREDBYDCARCPLASMAJET CHEN 0 Minl) Rongfal,2)，Z∞Dunwen¨，己，Duosheng¨，删ⅣGBingkun¨，ZHALigang¨，黝ⅣG ofMechanicalandElectrical ofAeronauticsand 1)Department Engineering，NanjingUniversity 210016 of 225009 Mechanical 2)Department Engineering，YangzhouUniversity,Yangzhou Correspondent：CHENRongfa．associate NQ．tionalNQIturalScienceFoundation Supportedby olChina(No form received revised2005-06-13 Manuscript2005-03-14，in ABSTRACTDiamondfilmwaferswithdifferentthicknesswere DCarc preparedbyhighpower ietCVDmethod．Thediamondfilm Wasunstableatsomemethaneconcentrationsand plasma growth the onthe and methaneconcentration．Theoretical instabilitydegreedepends analysisexperimental showthatthe is attributedtothe saturationofcarbon investigation