水热法制备高折射率的HfO2光学薄膜.pdfVIP

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2015-08-18 发布于重庆
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水热法制备高折射率的HfO2光学薄膜.pdf

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水热法制备高折射率的HfO2光学薄膜.pdf

第35卷第12期同济大学学报(自然科学版) Vd．35No．12 2007年12月 JOURNALOFTONGJiUNWERSITY(NAIURALSCIENCE) Dec．2007 水热法制备高折射率的Hf02光学薄膜王生钊，沈军，罗爱云，刘春泽 (同济大学波耳固体物理研究所，上海200092) 摘要：采用水热合成技术制备了Uf02胶体，用旋涂法镀制了单层Hf02介质膜．采用多种仪器设备对薄膜进行性能测试和表征，并用输出波长为1．06 Ils的电光调Q激光系统产生的强激光测试薄膜的激光损伤阈 tan、脉宽为10 值．研究表明，水热合成技术制备的Hf02薄膜具有较高的激光损伤阈值、折射率和较好的平整度．对Hf02薄膜激光损伤形貌和成因进行了研究．关键词：H硷薄膜；水热合成；高折射率；激光损伤阈值 484．1 中图分类号：O 文献标识码：A of RefractiveIndex Thin High Hf02 Preparation Fj is Ims byHydrothermalSynthes WANG CAunze Jun，LUOAiyun，LIU Shengzhao，SHEN Institute (Pohl ofSolid University，shanghai200092，Oaim) State*Physics，Tongii wasobtained thinfilmswere with Abstract：H她solbyhydrothermalsynthesis．Hf02 preparedspin thinfilmswerecharacterizedorexamined kindsofinstruments．And coatingmethod．Hf02 bymany 1-on一1laser-inducedthresholdtestson werecarriedoutwitha Nd— damage H她films Q—switched at a widthof YAG laser1064咖with lOns．The resultsshowthat highpower pulse experimental filmscall refractive SUl{acemicro andexcellentlasef thin achieve HfOz high index．good morphology threshold．The ofthe1aser—inducedandtheI．easonofitarein- induced