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2017-08-14 发布于安徽
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BEPCⅡ注入探究.pdf

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BEPCII注入研究黄楠李波中国抖学院高能物埋所北京100039918信箱 BEPCH是北京正负电子对擅机的升圾改进项目，它采用双环交叉对撞，每环流强约为lA．本文介绍BEPCII注入物理设计．包括环注入系统、输运线改进、注入模拟跟踪等· 1．储存环注入概述 BEPCII对撞模式采用全能量，水平相空间注入和积累。正负电子柬经直线加速器加速到所需能量，再分别通过正负电子输运线从外环内侧注入到正负电子储存环中。根据BEPcII总体目标提出的注入设计总体要求见表l。对直线加速器的总体要求见表2。表1注入设计的总体要求负电子正电子注入能量 (Gev) 1．55-1．891．55-1．89 注入速率 (m^／min) ≥200 ≥50 环正常注入效率(％) ≥80 西5 正常需补充注入的流强 (mA) -350 —350 正常补充注入用时间 (min．) S2 S7 注入本底谱仪许可范围内表2对直线加速器的的总体要求负电子 l正电子注入能量 (GeV) 1．55一1．89 重复频率 (Hz) 50 能散度(包含中心能量稳定度) (％) O．5 O．64 1．6 发射度(2O，1．89GeV) (∞．Ⅲrad) ≥0．2l ≥0．038 直线出口单脉冲电量 (nC／puIse) 单脉冲长度 (ns) l l 定时系统相对纵向接受度中心的时间抖动 (ps) ±70 ±70 直线出口中心轨道晃动r／r’(Ⅲ／mrad)士0．3／±0．05 ±0．3／±0．05 正电子双脉冲注入脉冲个数／脉冲间隔 (nS) 2／56 直线出口双脉冲电量 (nC／Hz) 0．06 一l蔫一 2．注入元件 2．1布局和凸轨 “记 ”二。n“一1几一田二_n ，，Iu 。坩。U一：JJ ，。～＼j。 ?夕 !r一／图1．注入元件布局示意图每个环的注入元件由两块相位差为Ⅱ的冲击磁铁K1，K