x射线各种应用.docx

X射线技术和应用 段落：  HYPERLINK /jpkc/guojia/dxwlsy/kj/part1/4-2-1.html 第一部分：X射线的产生和性质 HYPERLINK /jpkc/guojia/dxwlsy/kj/part1/4-2-2.html \l chapter1 X射线衍射（XRD）  HYPERLINK /jpkc/guojia/dxwlsy/kj/part1/4-2-2.html \l chapter2 X扩展的X射线吸收边（EXAFS）  HYPERLINK /jpkc/guojia/dxwlsy/kj/part1/4-2-2.html \l chapter3 X射线形貌（白光形貌和双晶形貌）  HYPERLINK /jpkc/guojia/dxwlsy/kj/part1/4-2-2.html \l chapter4 X射线成像（XRI）  HYPERLINK /jpkc/guojia/dxwlsy/kj/part1/4-2-2.html \l chapter5 X射线小角散（XRS）  HYPERLINK /jpkc/guojia/dxwlsy/kj/part1/4-2-2.html \l chapter6 X射线光刻（XRL）  HYPERLINK /jpkc/guojia/dxwlsy/kj/part1/4-2-2.html \l chapter7 X射线荧光（XRF）- 元素分析  HYPERLINK /jpkc/guojia/dxwlsy/kj/part1/4-2-2.html \l chapter8 X射线实验系列化研究  HYPERLINK /jpkc/guojia/dxwlsy/kj/part1/4-2-2.html \l chapter9 结束语：X射线实验系列化研究] X射线衍射（XRD） ????????  HYPERLINK /jpkc/guojia/dxwlsy/kj/part1/4-2-2.html \l 0 Debye 法 同步辐射（SR）XRD装置 （BSRF） 纳米微晶Fe的X射线衍射曲线与理论计算结果的比较 ????????  HYPERLINK /jpkc/guojia/dxwlsy/kj/part1/4-2-2.html \l 0 Laue 法 蛋白质的Laue衍射图 ? 扩展的X射线吸收边（EXAFS） XANES：30 – 40eV 光电子多重散射 EXAFS：大于40eV 光电子/散射波干涉 ? X射线形貌（白光形貌和双晶形貌） X射线形貌图 ? X射线成像（XRI） 层析术（吸收） 显微术（吸收） 全息术（衍射） 减法造影（吸收） 其它 ???????? 扫描X射线显微镜装置 透射扫描软X射线原理图 ???????? X射线显微术实验站 ???????? 显微图 ???????? 造影装置 ???????? 兔耳造影 (注入BaFBr） ? X射线小角散（XRS） ? X射线光刻（XRL） SR X射线光刻装置（XRL） ????????  HYPERLINK /jpkc/guojia/dxwlsy/kj/part1/4-2-2.html \l 0 X-ray 掩膜（mask） 掩膜 ????????  HYPERLINK /jpkc/guojia/dxwlsy/kj/part1/4-2-2.html \l 0 X-ray 抗蚀剂（resist） 分类： 光抗蚀剂 X射线抗蚀剂 电子束抗蚀剂 有机抗蚀剂 无机抗蚀剂 单组分 双组分 三组分 正性抗蚀剂 负性抗蚀剂 ?????? 单组分 ?????? 双组分 基本树脂材料+含卤族元素的光敏感剂 ?????? 三组分 Novalok 树脂基体 提供良好的抗干刻蚀特性 对辐射灵敏的组分 辐照后吸收光子产生强Bronsted酸 阻溶剂 对光子不敏感但对酸很敏感 ? ? ?????? 正性抗蚀剂 正性抗蚀剂的衬度曲线 sp = D0 sn = D0.7 [资料] PMMA (poly(methyl methacrylate)) - 聚甲基丙烯酸甲酯 positive tone, polymer chain scission type Electron beam, DUV, x-ray and multi-level lithography Basic Parameters: Molecular weight 50 - 950 kg/molSolids content4% - 10%Glass-transition temperature85 -