基于VC＋＋60的电子束曝光控制系统.pdfVIP

基于 VC＋＋6.0 的电子束曝光控制系统 宋志 1，2 魏淑华 1，2 薛虹 1 韩立 1 （1． 中国科学院电工研究所 北京 100190 ；2 ．中国科学院研究生院 北京 100039 ） 摘要：随着纳米科技的迅速发展，下一代光刻技术在微细加工领域发挥着日益重要的作用。 作为复杂半导体加工主要手段之一的电子束曝光系统，需要稳定完善的控制软件来保证其正 常运行。本文介绍了电子束曝光控制系统的设计原理，并着重介绍了其对电子束曝光的全过 程进行控制的强大功能。 关键词：电子束曝光 控制系统 绘制图形 分类号：TN305.7; TP319 文献标识码：A The E-beam Lithography Control System Based on VC++6.0 1，2 1，2 1 1 Song Zhi , WEI Shu-hua , XUE Hong , HAN Li , （1．Institute of Electrical Engineering , Chinese Academy of Sciences, Beijing, 1001900,China； 2 ．Graduate School of Chinese Academy of Sciences, Beijing, 100039, China) Abstract: With the quick development of nanoscience and nanotechnology, Next Generation Lithography has played more and more important role in the field of micro-fabrication. As one of the complicated semiconductor machining equipments, electron beam lithography system needs steady control software system to ensure that it can run correctly. In this paper, the fundamental theories of the newly developed control system for electron beam lithography are introduced. Furthermore, the robust control of the whole process from creating exposure files until the final exposure is discussed in particular. Key Word: Electron beam Lithography, Control system, Draw graphics 1 引言 自 1947 年世界上第一只晶体管问世以来，半导体微电子技术以及由此引发的各种微型 化技术已经发展成为现代高科技产业的主要支柱[1] 。微纳米科技的迅速发展，依赖于微纳米 尺度的功能结构器件的制作与应用，作为微电子制造技术发展的主要驱动者[2] ，图形曝光 技术正在飞速的发展。目前，电子束直写曝光技术以其极高分辨率，试验周期短，灵活性强 的优势在微纳米加工领域发挥着重要作用，而功能强健、操作灵活的控制系统是其正常协调 工作的重要保障。 国际上对于电子束曝光系统的研究已经取得较大的成就，其中具有代表性的有美国 IBM 公司、日本 JEOL 公司、德国 Raith 公司等，其开发研制水平已经非常成熟，软件功能也非 常完善。国内早在 20 世纪 60 年代就开始研制电子束曝光系统，但是一直没有真正实用的、 功能完备的研究成果。中科院电工所在进行电子束曝光机研制三十多年的基础上，将其作为 一项重要课题，自主研制开发了一套实用的电子束曝光软件系统，填补了国内技术的空白。 2 功能设计要求 电子束曝光系统是一个集电子光学、精密机械、自动控制、超高真空等技术为一体的高 性能的复杂系统，它的受控制量类型多，控制范围广，精度要求高。因此，它要求控制计算 机具有存储大量图