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2025《真空镀膜技术的类别概述》1800字.docx

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    真空镀膜技术的类别概述

    薄膜是一种使用多种薄膜材料的物质形式，可以是没有成分或化合物的简单材料，也可以是无机或有机材料。与大量物质一样，薄膜可以是单晶的、多晶的或无定形的。涂层技术和薄膜产品广泛应用于工业应用，特别是电子材料和零部件工业。[4]

    气相生成法、氧化法、离子注入法、扩散法、电镀法、涂布法、液相生长法是主要的镀膜方法，气相生成法又可以分为物理气相沉积法(PhysicalVaporDeposition，简称PVD法)、化学气相沉积法(ChemicalVaporDeposition，简称CVD法)和放电聚合法等。[5]

    真空蒸发、溅射镀膜和离子涂层是制备薄

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