放电条件及气体流量对磁控溅射Cr镀层沉积效果的影响机制与优化策略研究.docx

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2025-10-21 发布于上海
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放电条件及气体流量对磁控溅射Cr镀层沉积效果的影响机制与优化策略研究

一、引言

1.1研究背景与意义

在材料表面处理领域，磁控溅射技术凭借其独特优势，成为了制备高质量薄膜和镀层的关键手段，在现代工业中占据着举足轻重的地位。该技术通过在真空环境下，利用磁场约束电子运动，增加电子与气体分子的碰撞几率，从而产生大量高能离子，这些离子轰击靶材，使靶材原子溅射出来并沉积在基体表面，形成均匀、致密且附着力强的薄膜或镀层。磁控溅射技术具有沉积速率高、可精确控制薄膜成分与结构、能在复杂形状基体上均匀镀膜以及对环境友好等诸多优点，因此被广泛应用于电子、光学、机械、航空航天等众多领域。

铬（Cr）镀层因其优异的