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基于Petri网的多组合设备建模与调度优化研究
一、引言
1.1研究背景与意义
1.1.1多组合设备的应用现状
在现代工业领域,多组合设备的身影无处不在,它们凭借独特的优势,成为推动各行业发展的关键力量。在半导体制造产业中,多组合设备占据着举足轻重的地位。半导体制造工艺复杂且精细,从晶圆制造到芯片封装测试,每一个环节都对设备的精度、稳定性和协同工作能力提出了极高要求。例如,在晶圆制造阶段,化学气相沉积(CVD)设备、光刻设备和刻蚀设备等常常组合使用。CVD设备负责在晶圆表面沉积各种薄膜,为后续的光刻和刻蚀工艺奠定基础;光刻设备则通过将设计好的电路图案精确地转移到晶圆上,确定芯片的电路布局
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