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机械设计基础;第2章平面机构的结构分析;2.1平面机构的组成;运动副;运动副的分类:类型;每个平面低副引入两个约束,
使构件失去两个相对运动的自由度。;高副:两构件通过点、线接触组成的运动副。
约束了沿接触处公法线nn方向移动的自由度,保留了绕接触点的转动和沿接触点公切线tt方向的移动两个自由度.
每个高副引入一个约束,使构件失去一个自由度。
;2.2平面机构运动简图;2.2平面机构运动简图;移动副的表示方法;齿轮副;构件的表示方法:
参与组成两个运动副的构件;
参与组成三个运动副的构件;
常用的构件和零件,采用惯用画法。;参与组成两个运
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