二分图受约束最小点覆盖问题：算法、应用与优化研究.docx

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2025-07-26 发布于上海
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二分图受约束最小点覆盖问题：算法、应用与优化研究

一、引言

1.1研究背景与意义

在图论这一数学领域中，二分图受约束最小点覆盖问题占据着极为重要的地位。随着科技的迅猛发展，这一问题在众多实际应用场景中频繁出现，展现出了巨大的研究价值和应用潜力。

在超大规模集成电路（VLSI）技术中，可修复阵列的应用是二分图受约束最小点覆盖问题的一个典型实例。随着芯片集成度的不断攀升，制作工艺中引入错误的风险也相应增加。在芯片制作过程中，出现错误存储单元是难以避免的，而这些错误单元会严重影响芯片的性能和可靠性。为了解决这一问题，可修复阵列应运而生。可修复阵列的工作原理是在每一个存储矩阵的行和列旁边预留一定数目