基于激光相变热刻蚀效应的微纳结构制备技术的深度剖析与创新应用.docx

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2025-07-26 发布于上海
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基于激光相变热刻蚀效应的微纳结构制备技术的深度剖析与创新应用

一、引言

1.1研究背景与意义

在现代科技飞速发展的浪潮中，微纳结构作为构建众多前沿技术的基石，其制备技术的创新与突破始终处于科研领域的核心位置。从电子学领域中不断追求更小尺寸、更高性能的芯片，到光子学领域里对光场精确调控的不懈探索，微纳结构都发挥着举足轻重的作用。例如，在集成电路制造中，微纳结构的精细程度直接决定了芯片的集成度和运行速度；在光子晶体研究中，特定的微纳结构能够实现对光传播特性的独特控制，为新型光学器件的研发开辟了道路。传统的微纳结构制备方法，如光刻、电子束刻蚀等，虽然在一定程度上满足了部分需求，但也面临着诸多挑战