基于专利分析的AI芯片与光刻技术竞争态势分析.pdfVIP

第卷第期科技和产业,

2511Vol.25No.11

年月,

20256ScienceTechnoloandIndustrJun.2025

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基于专利分析的芯片与光刻技术竞争态势分析

AI

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王佳怡翟羽涵黎诚劼吕拉昌

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1.首都师范大学资源环境与旅游学院北京100048

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2.首都师范大学北京城市创新与发展研究中心北京100048

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摘要基于专利索引数据库从年份地域申请单位以及专利价值度个关键维度对全球芯片和光刻技

incoPat4AI

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术的竞争态势进行研究结果表明年全球芯片和光刻技术专利申请呈逐年上升趋势中国芯

19902023AIAI

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片和光刻技术在专利申请和专利发明人来源中占据重要地位但在申请单位分布和价值度方面尚未跻身前列中

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国在专利集中度和核心技术竞争力方面与国际先进水平存在差距需加强专利布局和技术创新以提升在全球竞争

中的地位。

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关键词芯片光刻技术专利分析竞争态势

中图分类号:;文献标志码:文章编号:()

G306K901A1671-1807202511-0289-11

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随着人工智能物联网5G技术等尖端技术领与其他国家或地区在技术发展上的差异认清自身

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域的快速发展对