1. 您所在位置：
  2. 网站首页
  3. 文档分类
  4. 电子工程/通信技术
  5. 电子电气自动化

集成电路工艺基础及版图设计课件.ppt

集成电路工艺基础及版图设计课件.ppt

此“教育”领域文档为创作者个人分享资料，不作为权威性指导和指引，仅供参考
    1. 1、本文档共108页，其中可免费阅读65页，需付费50金币后方可阅读剩余内容。
    2. 2、本文档内容版权归属内容提供方，所产生的收益全部归内容提供方所有。如果您对本文有版权争议，可选择认领，认领后既往收益都归您。
    3. 3、本文档由用户上传，本站不保证质量和数量令人满意，可能有诸多瑕疵，付费之前，请仔细先通过免费阅读内容等途径辨别内容交易风险。如存在严重挂羊头卖狗肉之情形，可联系本站下载客服投诉处理。
    4. 4、文档侵权举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
    查看更多

    常見的光刻曝光方法接觸式曝光：解析度0.5um;掩模版易損壞；容易累積缺陷；接近式曝光：矽片和掩模版之間的間隙在10~25um；對於可見光，解析度約1um；對X-ray，解析度可以很高；投影式曝光（目前最常用的）投影式曝光系統WaferStepper用光刻方法製成的微圖形，只給出了電路的形貌，並不是真正的器件結構。因此需將光刻膠上的微圖形轉移到膠下麵的各層材料上去，這個工藝叫做刻蝕。通常是用光刻工藝形成的光刻膠作掩模對下層材料進行腐蝕，去掉不要的部分，保留需要的部分。刻蝕技術可分成兩大類：濕法腐蝕：進行腐蝕的化學物質是溶液；幹法腐蝕(一般稱為刻蝕)：進行刻蝕的化學

    您可能关注的文档

    最近下载

    文档评论（0）

    子不语 + 关注
    官方认证
    服务提供商

    平安喜乐网络服务,专业制作各类课件,总结,范文等文档,在能力范围内尽量做到有求必应,感谢

    咨询作者（78人已咨询） 服务中
    认证主体菏泽喜乐网络科技有限公司
    IP属地未知
    统一社会信用代码/组织机构代码
    91371726MA7HJ4DL48

    1亿VIP精品文档

    更多 >

    相关文档

    更多 >