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基板处理方法包括以下工序：决定最优蚀刻条件；以及基于最优蚀刻条件向基板的蚀刻对象的表面供给蚀刻液，来对该表面进行蚀刻，其中，决定最优蚀刻条件包括：获取在以多个不同的蚀刻条件蚀刻了蚀刻对象的表面时的、该蚀刻对象的径向上的蚀刻指标分布；使用优化方法，以将与多个蚀刻条件对应的蚀刻指标分布叠加而蚀刻对象的表面的形状成为目标形状的方式将用于叠加的蚀刻指标分布与对该蚀刻指标分布进行叠加的次数的组合进行优化；以及将与优化后的组合对应的蚀刻条件整合来决定最优蚀刻条件。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN118103956A
(43)申请公布日2024.05.28
(21)申请号202280068972.7(74)专利代理机构北京林达刘知识产权代理事
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