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基板处理方法包括:第一蚀刻工序,在基板的整个表面形成有第一处理液的水坑的状态下,通过从喷嘴朝向在基板的表面局部地设定的目标区域局部地喷出第二处理液,来以目标区域的蚀刻速率与其它区域的蚀刻速率不同的方式进行蚀刻,以及第二蚀刻工序,通过一边使基板旋转一边以利用蚀刻液的液膜覆盖基板的整个表面的方式供给蚀刻液,来对基板的整个表面同时进行蚀刻,其中,在第一蚀刻工序中使用的第一处理液和第二处理液中的一方是蚀刻液,另一方是通过与蚀刻液混合来使利用蚀刻液对基板的表面进行蚀刻的蚀刻速率下降的蚀刻抑制液。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN118103957A
(43)申请公布日2024.05.28
(21)申请号202280068973.1(74)专利代理机构北京林达刘知识产权代理事
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