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本发明涉及电子器件制作技术领域，公开了一种高精度电子器件图案的制作方法，其包括步骤：将疏水膜液体材料涂布在基板上并进行硬化处理，形成疏水层干膜；采用激光刻蚀方法在疏水层干膜上刻出器件所需高精度图案的初始沟槽；采用等离子体对初始沟槽进行深度清洁处理，得到精密沟槽；在精密沟槽内用喷墨打印方法注入墨水材料，将墨水材料中的墨水烘干，在基板上生成高精度器件膜层图案；重复上述步骤在基板上完成多层高精度器件膜层图案的制备，制得高精度电子器件图案。本发明提供的高精度电子器件图案的制作方法不受墨水材料注入的喷墨打
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117747432A
(43)申请公布日2024.03.22
(21)申请号202311747983.0
(22)申请日2023.12.18
(71)申请人季华实验室
地址528200
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