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本发明公开了一种金属量子点阵构型调控方法，包括：对基片进行退火；使用激光对靶材进行清洗；清洗完靶材后，在基片上进行靶材量子点的生长；在靶材量子点生长过程中，原位反射式高能电子衍射装置对靶材量子点生长过程进行监测，通过衍射图案判断靶材量子点的生长模式及生长状态，通过衍射图案中的衍射斑点或衍射条纹的变化，对靶材量子点的生长取向进行分析判断。本发明利用脉冲激光沉积法，通过改变脉冲激光作用的频率、能量密度、脉冲数量，实现在超高真空中固体薄膜表面获得尺寸、形状、间距原位可调的金属量子点阵。制备出的金属量子
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117512523A
(43)申请公布日2024.02.06
(21)申请号202311592796.X
(22)申请日2023.11.27
(71)申请人西南科技大学
地址621010
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