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本发明涉及焦面误差补偿，具体涉及一种对准光源焦面误差补偿方法，选取焦面位置测量标记，于标定的光刻系统中，在不同光源条件下的各焦面位置处进行曝光；记录当前焦面位置，并采集记录光刻空间像的二维分布；整理光刻空间像结果，并将光刻空间像结果划分为训练集、测试集；构建最佳焦面检测模型，利用训练集和测试集对最佳焦面检测模型进行模型训练，得到训练好的最佳焦面检测模型；利用训练好的最佳焦面检测模型对待测光刻系统中相应光源条件下的最佳焦面进行检测，得到目标最佳焦面；本发明提供的技术方案能够有效克服现有技术所存在的
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117452771A
(43)申请公布日2024.01.26
(21)申请号202311060883.0
(22)申请日2023.08.22
(71)申请人安徽国芯智能装备有限公司
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