平场校正的方法、平场校正系统及其计算机可读存储介质.pdfVIP

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2024-01-17 发布于四川
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平场校正的方法、平场校正系统及其计算机可读存储介质.pdf

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本发明公开了一种平场校正的方法、平场校正系统及其计算机可读存储介质。其中，所述平场校正的方法，包括：提供待校正相机和空白晶圆；采集所述空白晶圆的暗场图像；采集所述空白晶圆的明场图像；根据所述空白晶圆的暗场图像和明场图像进行所述待校正相机的平场校正计算处理。本发明所提供的技术方案本发明的技术方案中，采用空白晶圆作为平场校正的目标物，所述空白晶圆在生产过程中，处于无尘环境中，不容易被污染，晶圆表面灰度一致性极高，能够解决现有平场校方法中平场目标难易保障足够的尺寸和均匀度等问题。

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN117409084A

(43)申请公布日2024.01.16

(21)申请号202311337413.4

(22)申请日2023.10.16

(71)申请人匠岭科技（上海）有限公司

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