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本发明提供在使用等离子体的处理中能够更稳定地维持等离子体的等离子体处理系统和等离子体处理方法。等离子体处理系统包括等离子体处理腔室、基片支承部、匹配器、RF电源和控制部。基片支承部配置在等离子体处理腔室内。匹配器与基片支承部电连接。RF电源与匹配器电连接，能够生成包含第一电功率水平、第二电功率水平和第三电功率水平的周期性的RF脉冲。控制部在供给第一电功率水平的第一时间段、供给第二电功率水平的第二时间段和供给第三电功率水平的第三时间段各自中，基于RF脉冲的反射电功率来计算负载的阻抗，并基于在第一时
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117316749A
(43)申请公布日2023.12.29
(21)申请号202310735960.1
(22)申请日2023.06.20
(30)优先权数据
2022-104778202
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