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本发明提供了一种涡旋盘陶瓷镀层电解液稳流装置,包括:处理槽主体、电解正极、电解负极、电解液稳压稳流箱体、涡旋盘支座以及电解液循环泵;电解正极与待处理涡旋盘电连接,电解负极位于处理槽主体内的电解液中;电解液循环泵包括进水端和出水端,出水端通过管道与电解液稳压稳流箱体连接,进水端通过管道与处理槽主体连接;涡旋盘支座设置在电解液稳压稳流箱体上,电解液稳压稳流箱体与涡旋盘支座的连接处开设有根据涡旋盘型线特征设计的电解液喷口。本发明能够及时补充随着涡旋盘表面处理反应进行而降低的电解液离子浓度,解决靠近涡旋
(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116815280 A (43)申请公布日 2023.09.29 (21)申请号 202310555948.2 (22)申请日 2023.05.17 (71)申请人 上海交大智邦科技
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