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在实施例中，器件包括：隔离区域，位于衬底上；第一纳米结构，位于隔离区域之上；第二纳米结构，位于隔离区域之上；第一栅极间隔件，位于第一纳米结构上；第二栅极间隔件，位于第二纳米结构上；介电壁，在顶视图中沿着第一方向位于第一栅极间隔件和第二栅极间隔件之间，在顶视图中，介电壁沿着第二方向设置在第一纳米结构和第二纳米结构之间，第一方向垂直于第二方向；以及栅极结构，位于第一纳米结构周围并且位于第二纳米结构周围，栅极结构的第一部分填充介电壁和第一纳米结构之间的第一区，栅极结构的第二部分填充介电壁和第二纳米结构
(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116825810 A (43)申请公布日 2023.09.29 (21)申请号 202310684661.X H01L 29/423 (2006.01)
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