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本公开提供一种存储器、存储器的衬底结构及存储器的衬底结构的制备方法。该制备方法包括：提供衬底；在衬底上形成包括多个间隔分布的条状图形的第一掩膜层，各条状图形均沿着同一方向延伸；形成覆盖第一掩膜层的第一介质层；在第一介质层上形成多个间隔分布的牺牲部，各牺牲部均覆盖于条状图形；向牺牲部之间的间隙填充第二介质；去除各牺牲部，并保留间隙内的第二介质，以形成第二掩膜层，第二掩膜层对应于各牺牲部的区域均形成暴露条状图形的通孔图形；以第一掩膜层和第二掩膜层为掩膜，逐层刻蚀至衬底内，以形成多个阵列排布的有源区。
(19)国家知识产权局 (12)发明专利 (10)授权公告号 CN 112864152 B (45)授权公告日 2022.06.24 (21)申请号 201911175485.7 (56)对比文件
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