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一种用于在纳米线中至少一个位置上电隔离垂直纳米线(210)的方法(100)。该方法包括设置(110)基材(200)，在基材(200)上形成(120)垂直纳米线堆叠。该堆叠包括至少一个第一材料纳米线段(211)。在垂直纳米线堆叠中的至少一个位置上设置第二材料牺牲段(212)。选择第二材料，使得可以相对于第一材料选择性地将其去除。此外，该方法包括对于应被隔离的所述至少一个纳米线段(211)创建(130)至少一个互连(214)，在创建互连(214)之后去除(140)所述至少一个牺牲段(212)并用隔离
(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112466816 A (43)申请公布日 2021.03.09 (21)申请号 202010691572.4 (22)申请日 2020.07.17 (30)优先权数据
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