基片处理装置、基片处理装置的制造方法和维护方法.pdfVIP

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2023-05-29 发布于四川
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基片处理装置、基片处理装置的制造方法和维护方法.pdf

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本发明提供一种基片处理装置及其制造方法和维护方法。基片处理装置具有处理容器，在设置于处理容器的壁部的第一贯通孔的内周面，和安装在壁部上的盖部件所具有的与第一贯通孔连通的第二贯通孔的内周面中的任一内周面配置有环状的导体，在第一贯通孔或者第二贯通孔安装有用于将第一贯通孔或者第二贯通孔的开口封闭的封闭部件，封闭部件由固定部固定在壁部，具有：插通体，其插通于第一贯通孔或者第二贯通孔，与内周面一起夹持导体；和凸缘，其与插通体连续地形成，具有比第一贯通孔或者第二贯通孔的开口大的平面面积。根据本发明，能够高效

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112420472 A (43)申请公布日 2021.02.26 (21)申请号 202010812039.9 (22)申请日 2020.08.13 (30)优先权数据 2019-1532