一种高稳定快擦写图案化的聚合物存储器及其制备方法.pdfVIP

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2023-05-26 发布于四川
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一种高稳定快擦写图案化的聚合物存储器及其制备方法.pdf

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本发明涉及有机电子器件与信息存储技术领域，特别涉及一种高稳定快擦写图案化的聚合物存储器及其制备方法。本发明的存储器包括导电基底、存储介质层、顶电极，所述的存储介质层包括表面具有孔洞的图案化的共轭微孔聚合物，采用特定方法制备得到。采用本发明的制备简单经济，原料易得，且可直接形成任意图案化，具有良好的紫外辐射、环境稳定性，而且存储器擦写速度快，达到纳秒级别。

(19)国家知识产权局 (12)发明专利 (10)授权公告号 CN 112259685 B (45)授权公告日 2023.04.07 (21)申请号 202011200011.6 H10K 71/16 (2023.01) (22)申请日 2020