抗蚀剂下层膜形成用组合物.pdfVIP

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2023-05-09 发布于北京
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抗蚀剂下层膜形成用组合物.pdf

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提供用于形成不溶于抗蚀剂溶剂、光学常数良好、可以适当调整蚀刻速率的抗蚀剂下层膜，并且对高低差基板的埋入性和平坦化性优异的组合物。一种抗蚀剂下层膜形成用组合物，其包含：(A)下述式(I)所示的交联性化合物；以及(D)溶剂。[式中，n为2～6的整数，n个Z各自独立地为包含单甲酰基芳基、二甲酰基芳基、三甲酰基芳基、四甲酰基芳基、五甲酰基芳基或六甲酰基芳基的1价有机基，n个A各自独立地表示‑OCH2CH(OH)CH2O‑、或(BB)，T为可以被羰基和/或氧原子中断的n价烃基以及/或聚合物的重复单元，且T

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114503033 A (43)申请公布日 2022.05.13 (21)申请号 202080070957.7 (74)专利代理机构北京市中咨律师事务所