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* 浸入式光刻技术 什么是浸入式? 与传统光刻的区别? 浸入式光刻的原理? 有什么优缺点? 与传统的光刻技术相比,浸没式光刻技术需要在光刻机投影物镜最后一个透镜的下表面与硅片上的光刻胶之间充满高折射率的液体。 结构对比简图 浸入式光刻技术的发现及发展 2002年以前,业界普遍认为193nm光刻无法延伸到65nm技术节点,而157nm将成为主流技术。然而,157nm光刻技术遭遇到了来自光刻机透镜的巨大挑战。 浸入式光刻的原型实验在上世纪90年代开始陆续出现。1999年,IBM的Hoffnagle使用257nm干涉系统制作出周
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