HfO2SiO2高反射膜的缺陷及其激光损伤Ξ-强激光与粒子束.pdfVIP

　第13卷　第5期 强 激 光 与 粒 子 束 . 13, . 5　 V ol N o 　2001年9月 H IGH POW ER LA SER AND PA R T ICL E BEAM S Sep. , 2001　 文章编号:(2001) 2 2 高反射膜的缺陷及其激光损伤 HfO SiO 胡建平, 　陈　梅, 　付雄鹰, 　柴　林 (成都精密光学工程研究中心, 四川 成都 610041) 　　摘　要: 　用原子力、 和扫描电子显微镜等分析仪器, 对高损伤阈值薄膜常采用的 N orm ask i H fO 2 SiO 2 薄膜进行了表面显微图象研究, 分析了薄膜常见的表面缺陷, 如 节瘤, 孔洞和划痕等。薄膜表面缺 陷的激光损伤实验表明, 不同缺陷的抗激光损伤能力大不相同, 节瘤缺陷最低, 约为15 2 , 薄膜的损 J cm 伤阈值主要由其决定, 孔洞的激光损伤能力与节瘤相比较高, 约为节瘤的2～ 3倍。节瘤缺陷在低能量密 度的激光损伤所形成的孔洞, 与镀制过程中形成的孔洞形貌相似, 激光再损伤能力也相似。低能量密度 的激光把节瘤缺陷变为孔洞缺陷是激光预处理提高薄膜损伤阈值的原因之一。 　　关键词: 　 高反射薄膜; 表面缺陷; 激光损伤 H fO 2 SiO 2 　　中图分类号: TN 24　　　　文献标识码:A 　　薄膜的缺陷与薄膜的抗激光损伤能力密切相关, 是降低薄膜激光损伤阈值的主要原因, 薄膜在镀制 ( ) ( ) 过程中所造成的缺陷主要有应力缺陷, 结晶状态 单晶, 多晶等 , 微结构 杂质颗粒, 节瘤, 孔洞等 缺陷 等[ 1～ 7 ] 。 薄膜的不同缺陷对薄膜的激光损伤阈值有不同的影响, 并且所对应的激光损伤能量 H fO 2 SiO 2 密度也不相同, 节瘤缺陷的激光损伤能量密度最低, 薄膜的激光损伤阈值基本由节瘤缺陷所决定。本文 针对我们镀制的 高反薄膜, 通过原子力显微镜( ) , 显微镜和扫描电镜( ) H fO 2 SiO 2 A FM N orm ask i SEM 等, 分析了薄膜的节瘤、孔洞及划痕等缺陷的形貌特征, 及其激光损伤特性。 1　薄膜的缺陷 　　为了提高薄膜质量, 增强抗激光损伤能力, 应消除薄膜中的各种缺陷, 但在薄膜镀制过程中, 以现 有技术不可能根除缺陷的产生, 只能采取适当的方式, 减少各种缺陷的产生。