一种新型酞菁类光蚀刻记录材料的光生酸性质研究.pdfVIP

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2019-05-25 发布于天津
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一种新型酞菁类光蚀刻记录材料的光生酸性质研究.pdf

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25 2 Vol. 25 No. 2 2007 3 Photogr phic Science nd Photochemistry M r. , 2007 研究简报黄蕾, 宾月景, 黄新, 张复实 ( , 100084) : 通过研究对甲苯磺酸酯空心酞菁的性质, 发现该化合物在紫外光照射下可酸, 是一种光酸剂. 由于酞菁类化合物本身具有光催化氧化反应的性能, 因此这类光酸剂在光蚀刻技术中将有很好的应用潜能. : 化学增幅抗蚀剂; 光酸剂; 光催化; 酞菁 : 1000-3231( 2007) 02-0142-05 : T Q57 : A [ 1, 2] 1983 , Ito , . , ( ) , , , [ 3] , , . , , , . [ 4, 5] , . , [6- 9] . , . . , , . , 193 nm . O SO2 , , , . B , , . : 2006- 10-23; : 2006- 12-20. : , E-m il: zh ngfs@m il. tsinghu . edu. cn. : ( ; (2007CB808000) . : ( 1981-) , , , . 142 2 : 143 1 1. 1 ( C H N , ~ 97% , ) , ( ClSO H , A. 32 18 8 3 R. , ) , ( HOC H CH , A. R. , ) , 6 4 3 A. R. . Element r V rio EL ( ) ; HP8452A - 1 ( ) ; IR Nicolet AVATAR-560 ( ) ; H NM R V ri n INOVA-500 ( ) . 1. 2 1. 2. 1[H2Pc( SO2Cl) x ] [ 10] , 2. 57 g 15 mL , , 130 6 h. 60 , 4 mL 0. 4 mL DMF , 1. 5 h, . 250 mL , , , , 95%, . , 64% . 1H NMR( CDCl , TM S ) , : 0. 8( NH) , 8. 2~ 9. 7( rom H) . 3 - 1 FT-IR( KBr) , / cm : 3290. 0, 3085. 6, 2921. 7, 2852. 2, 1781. 9, 1735. 6, 1602. 6, 1502. 3, 1376. 9, 1334. 5, 1182. 2, 1108. 9, 1018. 2, 877. 5, 748. 3, 717. 1, 632. 5, 540. 0. U V-Vis( CH Cl ) , /