高分子乳液结果与讨论FT-IR图谱polyMMA-co-GMA-IDA.PPTVIP

大綱 前言 實驗流程 結果與討論 結論 前言 近年來奈米半導體材料是相當熱門的題目，由於量子尺寸效應,大表面積效應..等,使得許多材料被賦予了在塊材所無法展現出的特殊性質。 另一方面半導體發光材料亦可用掺染的方法提高發光程度,而傳統的掺染方法是利用熱能讓原子以擴散方式進入晶格中,但此方式易受到高溫影響造成粒徑成長,故無法有效製備出高發光強度的材料。 結果與討論 FT-IR圖譜 PL光譜 發光實際圖 * * 以螯合型高分子製備摻染型CdS 奈米複合微粒及其發光特性之研究 學 生: 袁琳雅 吳淑媛 指導教授: 王振乾 教授 將奈米級的無機顆粒分散至高分子基材裡有利於提升高分子材料的剛性，熱性質或是附予高分子材料的功能性。目前常用的製備方法為:層間差入法，超微粒子直接分散法，原位法，還原法，溶膠-凝膠法等。 而本實驗是利用高分子側鏈的螯合官能基固定金屬離子，再利用試劑將金屬離子原位反應還原。此方法可以防止還原後金屬或金屬氧化物的凝集。 而本實驗利用功能性高分子以螯合及化學沉澱方式成功的將CdS/ZnS 掺染型奈米複合微粒成長於高分子微粒上。 PH=7 利用陽離子交換樹脂 螯合型高分子乳液製備 90℃烘乾 螯合型高分子膜製備 + Cd2+ 和 Zn2+ 30℃下，螯合4小時 Cd2+Zn2+/高分子薄膜製備 Na2S (aq) 化學沉澱法 CdSZnS/高分子薄膜製備 加入不同螯合型化合物 實 驗 流 程 圖 螯合單體GMA-IDA的合成 加入不同螯合型化合物 七種具螯合基化合物 EDA NH4OH TETA TEPA Imidazole IDA Succinimide 螯合單體GMA-IDA的合成 IDA NaOH + 二次水 GMA GMA-IDA 650C 反應3hr 螯合型高分子乳液製備 GMA-IDA MA MMA C2H5OH 二次水 起始劑: KPS 750C 反應4hr + + + + 高分子乳液 poly (MMA-co-GMA-IDA) poly- (MMA-co-MA-co-GMA-IDA) -C=O -COO- (a)(b)(c)CdS/ZnS/poly(MMA-co-GMA-IDA)低倍到高倍 TEM圖 A B C Cd Cd Cd Cd Cd Cd Cd Cd Cd Cd Cd +Cd2+ NaS CdS CdS CdS CdS CdS CdS CdS CdS CdS/ZnS/poly(MMA-co-GMA-IDA); CdS/poly(MMA-co-GMA-IDA) a b SEM-EDX 之分析圖 (a) poly(MMA-co-MA-co-GMA-IDA)高分子薄膜； (b) CdS/ poly(MMA-co-MA-co-GMA-IDA)高分子薄膜； (c) CdS/ZnS/ poly(MMA-co-MA-co- GMA-IDA； (d) 以摻染Zn2+鈍化CdS/ poly(MMA- co-MA-co- GMA-IDA)； (e)以ZnS鈍化CdS/ poly (MMA-co-MA-co- GMA-IDA)。 (a) (b) (c) (d) (e) CdS/ZnS/poly(MMA-co-MA-co-GMA-IDA); (b) CdS/poly(MMA-co-MA-co- GMA-IDA); (c) CdS /poly(MMA-co-MA-co-GMA-IDA)以Zn2+鈍化 (d) CdS /poly(MMA-co-MA-co-GMA-IDA)以ZnS鈍化 a b c d PL光譜 浸泡鈍化溶液10分鐘 PL圖 表面鈍化 浸泡鈍化溶液30分鐘 浸泡鈍化溶液60分鐘 鈍化趨勢線 CdS/ZnS/ poly(MMA-co-MA-co- GMA-IDA) 高分子薄膜鈍； (a)Succinimide；(b)NH4OH；(c)IDA；(d)imidazole； (e)TEPA；(f)TETA；(g)EDA。 Succinimide NH4OH IDA Imidazole TEPA TETA EDA