LEF生成工具abstract培训材料.pdf

Abstract 培训指导 1. 准备工作： 为了在abstract 中可以对需要进行abstract 提取的单元进行编辑和view 。需要有版图的 display.drf 。 $ cp ~/../libs/smic18/mixed_signal/techfile/display.drf . 必须文件： 带有工艺信息的 lef 库文件：/export/homeO5/libs/smic18/std_cell/2003q3v2/aci/sc-x/lef/ smic18_6lm.lef gdsII mapping 文 件 ： /export/homeO5/libs/smic18/std_cell/2003q3v2/aci/sc-x/gds2/ layer_table （以smic 0.18um 工艺为例） 2. 启动abstract $ abstract 3. 建立库 File- library - new 填入建立的库名，这里为smic18_abs. 库的管理和版图设计一样， 见cds.lib 。 这时会出现错误的提示，原因是库中没有工艺方面的信息，如金属层的定义，等等。下 面通过导入带有工艺信息的lef 库来解决这个问题。 4. 导入lef 库 File- import - lef ，选中overwrite technology 。 出现以下log， 此时，读者可以打开 smic18_6lm.lef 文件才学习 lef 文件中关于工艺信息的定义，如 METAL1 、VIA12 、METAL2 的定义，以及线宽、间距等定义。 5. 导入gds 文件 在导入gdsII 文件时需要map 文件，以对应gdsII 中的层号与lef 中的层次的名称。特别 需要注意的是这里的map 文件不是版图设计时使用的techfile 中对应的gdsII map 文件，而 是要根据lef 库中与工艺及层次定义，来对应gdsII 层号与lef 层次的关系。 layer mapping 文件的内容： File- import -gds ，default Bin 选 block 。（如果对标准单元进行abstract，选core ） 这里导入的gdsII 文件为encounter training 中的pmult32 。 这里可以通过cells- edit -layout 来启动版图工具编辑和view 导入的版图。注意版图 层次名称和 gdsII 及版图设计时的关系。找到端口标注的 label 的层次。由于在电源环的 METAL5 和 METAL6 上没有标注电源，因此这里在电源环上采用 METAL5(lbl) 或 METAL6(lbl)标注上VDD 和VSS ，同时，将pin 上的金属层由drawing 改到pin 的purpose 上，例如out[63] 的METAL3(drw)改为METAL3(pn) ，其他类似，然后保持，关闭。 6. 提取端口 根据端口（包括电源）的名称及使用的层次，填写pin 提取表。输出为out[0:63]，采用 正则表达out 。 运行完毕将显示正确结果。如果问题可以进入cells- edit -pins 进行debug 。 此时，cells- terminal properties 查看提取的端口是否正确。 以下extract 和abstract 步骤，对于block 和core 不同类型的 提取，设置会不同。以下首先以block 为例，说明extract 和abstract 步骤，然后在说明core 的extract 和abstract 步骤。 7. extract 由于是block 的提取，signal net 和power net 不需要提取出来。因此，采用工具的默认 设计即可。 8. abstract signal nets 选择create boundary pins，以便在block 的边界处创建pin 。而电源根据需要 创建boundary pins 或ring pins （创建ring pins 首先需要在extract 时创建power 的nets ）。 由于是提取bl