多功能离子注入与离子束溅射系统.docVIP

附件1. IBAD-600 多功能离子注入与离子束溅射系统 说明书 成都同创材料表面新技术工程中心 2009年02月28日 ————— 目录 —————— 致谢、服务、设备维护及维修、敬告、注意 ‥‥‥‥‥‥‥‥ 2 IBAD—600多功能离子注入与离子束溅射系统使用说明书 ‥3 真空系统操作说明书 ‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥6 高能金属离子源使用说明书 ‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥7 高能气体离子源使用说明书 ‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥13 溅射离子源使用说明书 ‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥17 清洗离子源使用说明书 ‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥21 安全规范 ‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥24 附 图 ‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥25 电气接线联络图 合格证 致 谢 感谢您使用成都同材料表面新技术工程创中心研制的IBAD-600多功能离子注入与离子束溅射设备，为了使该设备能更好地为您服务，请在使用前仔细阅读本手册。IBAD-600离子注入增强沉积设备作为一种专用设备，其设计、制造、调试及使用、维护均有很大的特殊性，我们在长期的生产服务过程中积累了丰富的经验，将全面介绍给用户，以便用户能正确、全面和充分地使用。 服务 为了确保设备长期可靠运行，我公司在设备出厂前全部经过严格调试，确保用户购买到高可靠、高质量的设备。所有售出设备均可得到我们为期1年的免费维护，在满1年后，我们也会继续为您提供服务，为方便您正确和充分地使用本公司产品，欢迎就设备的使用和其它相关事项与本公司联系，如有需要请致电本公司用户服务部电话：028 设备维护及维修 请使用者严格按照设备使用说明书进行操作，如设备出现问题，请先与我公司联系，并与我们就有关问题进行讨论。您应向我们提供设备型号、编号以及故障现象及修理原因。我公司将安排相关人员，及时处理您的要求。 敬 告 使用者负责设备的安全操作以及设备的正确使用。未按照操作手册使用造成的损坏，本公司不提供免费维护。 本公司提供有关产品方面的使用说明书，但对设备的售后操作或设备所有者的安全操作规程不负任何责任。 注 意 凡使用此设备或靠近此设备的所有工作人员都必须注意安全，以防自己受到可能的致命身体伤害。在设备周围切勿疏忽大意！！！IBAD—600 多功能离子注入与离子束溅射系统 1 设备简介 1.1 设备主要组成部分 主机系统、PLC控制系统、离子源电源系统、辅助系统。 1.1.1 主机系统主机系统由真空室、真空抽气系统、高能气体离子源、高能金属离子源、溅射气体离子源、清洗气体离子源、溅射靶、样品水冷与加热靶台组成1.1.2 PLC控制系统PLC控制系统由上位机（计算机）、下位机（PLC系统）及RS485通讯系统构成。 1.1.3 离子源电源系统离子源电源系统主要由溅射离子源电源、清洗离子源电源（位于1#控制柜内），高能气体离子源头部电源、高能气体离子源加速电源（位于1#高压连体柜内），高能金属离子源头部电源、高能金属离子源引出电源（位于2#高压连体柜内），高能气体离子源抑制电源、高能金属离子源抑制电源及高能离子源的参数测量系统、PLC系统、辅助电源系统等均位于2#控制柜内。 1.1.4 辅助系统辅助系统由水压检测部分、自动放电部分、辅助电源等构成。 1.2 1.2.1离子束清洗：对待处理工件或样品进行表面清洗。 1.2.2离子束溅射沉积：用低能溅射气体离子源实现溅射沉积薄膜。 1.2.3金属、气体离子注入，混合注入、单注入、反冲注入。 1.2.4离子束辅助/增强沉积：用中高能气体/金属离子束对溅射沉积薄膜实现离子束增强沉积。 2 主机系统2.1真空室 真空室采用全不锈钢结构，室内空间充裕，便于操作和更换零部件，内烘烤100150℃。两个φ100观察窗，两个CF35四芯引线法兰，两个备用CF35四芯引线法兰，并配相应盲板。配钢结构支架，坚固，安全。真空室配备照明系统。 2.2 本套系统根据真空室大小及实验要求采用F250/1500型分子泵和2X-30机械泵，通过C250超高真空翻版阀进行抽气。机械泵可通过真空阀门的切换对真空室进行真空预抽及作为分子泵的前级泵对真空室进行高真空抽气，抽气管路为不锈钢。极限真空优于7×10-4Pa。 2.3本系统提供离子束溅射靶一套，可以同时安装4块不同材质的溅射靶，靶位交换采用减速电机控制，可以实现溅射靶位的正反向移动，在操作接口设定靶位后，系统会控制电机快速的达到所需靶材。靶位