In2O3SnO2薄膜的制备及光谱反射性能研究.PDFVIP

第 卷 第 期 年 月 物 理 学 报 () ! %!% ! ， ， ， GC; /() MC / ! N9+O9HJ %!% （ ） !%%%7$)%-%!%-() %! -%(’ !7%’ FIKF EL5.*IF .*M*IF !%!% IP:+ / EPJ@ / .C= / ! $ ’$ 薄膜的制备及光谱反射性能研究! # % # ）） ） 田启祥! # 刘胜超$ !）（解放军理工大学，南京 !%%% ） ）（总装工程兵科研一所，无锡 !’%$( ） $ ）（上海炬通实业有限公司，上海） （ 年 月 日收到； 年 月 日收到修改稿） %%) $ $% %%) ( $! 开展了在伪装网基布上镀*+ , - .+, 薄膜的性能研究，系统分析了薄膜厚度对其光谱反射性能的影响；总结 $ 了薄膜厚度对*+ , - .+, 薄膜表面形貌、光谱反射辐射性能的影响规律，为*+ , - .+, 薄膜的红外伪装应用奠定了 $ $ 基础理论和实验依据/ 关键词： 薄膜，红外反射特性，红外发射率，可见光—近红外透过率 *+ , - .+, $ ： ， ， ()** 0% 0!’% 1!!%2 !D 引 言 D 实 验 透明导电薄膜是一种高性能半导体材料，通过 # + ,+ ! $ ’$ 薄膜原理样品制备 调节掺杂浓度，可实现对透明导电薄膜的红外反射 # % # 性能及可见光、近红外透过性能的调控，如从可见光 本文采用真空磁控溅射法进行镀膜，即通过被 区甚至紫外光区具有高的透过率，而在热红外波段 加速的正离子轰击作为蒸发源的阴极（ *+ , - .+, $ 具有较高的反射率 目前围绕透明导电薄膜的应用 /