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肖特基整流二极管介绍
肖特基整流二极管
介 绍
一、引言
肖特基势垒二极管(Schottky barrier diode简称SBD)是一种金属(或金属硅化物)/ 半导体接触的器件,它是多子器件,主要用其非线性电阻的特性。
SBD是最古老的半导体器件,1904年开始,矿石检波器就得到了应用。SBD在超高频及微波电路中用于检波和混频,都是用其正向非线性电阻的特性。SBD长期用金属与半导体接触进行制作,稳定性差,是可靠性最差的半导体器件之一。八十年代开始对金属硅化物深入研究,用金属硅化物代替金属,获得了可靠而又重复的肖特基势垒,为大规模生产奠定了基础。
各种家用电器、微电脑、汽车电子、通讯设备、仪器、国防军工都要求电子设备轻量化、小型化,特别是要求采用小型化和高效率的电源。高频开关电源随着工作频率的提高,其体积和重量都会明显减小,同时效率显著提高,高频开关电源越来越受到人们的重视。SBD 有三大特点:(1)速度快(多子器件,无少子储存效应);(2)正向压降低;(3)散热性能好。 SBD与通常的PN结整流器件相比,SBD具有开关速度快(高频)、导通电压低(高效)、抗电流浪涌冲击能力强(大电流)。低输出电压(V0≤±24V)的高频开关电源多采用肖特基整流二极管。世界高频开关电源年销售额约为500亿美圆,这是一个巨大的市场!对肖特基整流二极管的规模生产有巨大的拉动力。SBD制作简单、工艺流程短、成本低、有利于大规模生产。
肖特基整流二极管在高频开关电源电路中起开关作用,是用其正、反向非线性电阻的特性(不再只是用正向非线性电阻的特性)。肖特基整流二极管的名称较多,有功率肖特基二极管、肖特基续流二极管、大电流肖特基二极管、肖特基开关二极管等等。
肖特基势垒与p-n结的比较
肖特基二极管的势垒可以比做在同一种半导体上的p-n结低许多,例如硅,p-n结的内建势Vbi≥0.8V;而肖特基结势垒电势为0.5V~0.6V很容易做到。在同一电流密度下,p-n结上的正向压降比肖特基二极管上的电压降至少高0.3V。换句话说,相同电压下肖特基势垒的饱和电流密度比做在同一半导体上的p-n结的饱和电流密度高105倍或更高(0.06V之差,电流密度差一个数量级)。肖特基二极管特别适用于做低压大电流整流器;反之,也是由于反向电流比较大,肖特基二极管不能像p-n结一样用作高压低电流整流器。
二.原理
关于SBD(肖特基势垒二极管)的理论计算公式很容易从书上找到。这里不进行SBD的电流输运方程的推导、也不进行设计计算,主要围绕势垒高度对SBD的重大影响,作一些简单的计算分析。
1. 电流输运方程
由热离子发射理论,得到电流输运方程:
JF = JS [exp(qVFB/nkT)-1 ] (1)
JS = A* T2exp(-qφB/kT) (2)
式中的符号:JF 为正向电流密度;JS为饱和电流密度;VFB为SBD势垒上的压降;q 为元电荷;n为理想因子;k为玻耳兹曼常数;T 为绝对温度;φB 为势垒电位;
A* = 110A*cm-2*K-2为n型硅的里查孙常数、A为电流。
一般理论计算公式的正向压降VF,其实是势垒上的压降VFB,而不是二极管的正向压降VFD 。二极管压降还包含串联电阻(Rs)上的压降VFS 。
VFD = VFB+VFS (3)
对于金属硅化物 / 硅的SBD,n = 1成立。一般VFB 》2.3kT/q , 式(1)方括号中的前面一项远大于10,后面的1可忽略不计。
JF = A*T2exp(-qφB/kT) exp(qVFB /kT) (4)
变换一下数学表示方式:
JF = A*T2exp[q(VFB -φB )/kT] (5)
由式(5)看φB的影响就一目了然。SBD势垒上的压降和φB之间是一个简单的相减关系。为保持JF不变,当φB 变化时,VFB必须跟着变相同的值。φB高的,VFB相应地高。
2.正向压降(VFD)的计算。
考虑到正向电流在外延层和衬底上的压降,还有衬底接触电阻上的压降JFρC 。
VFS= JF( ρede+ρBdB+ρC) (6)
由式(5)可算得:
VFB= φB+[(kT
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