纳米压印光刻机承片台的设计说明书.docVIP

大学 毕 业 设 计（论 文） 题目 纳米压印光刻机承片台的设计 学生姓名： 学生学号： 指导教师： 机械工程 学院 机械设计制造及其自动化 专业 班 2011年6月15日 毕业设计（论文）任务书 专业 机械设计制造及其自动化 班级 姓名 下发日期 20-3-6 题目 专题 主 要 内 容 及 要 求 主要技术参数 进 度 及 完 成 日 期 3 月7日 ~ 3月20日 毕业实习 3 月21日 ~ 4月3日查阅资料、熟悉课题 4 月4日 ~ 4月17日确定总体设计方案 4 月18日 ~ 5月1日的设计 5 月2日 ~ 5月22日的设计 5 月23日 ~ 5月29日整个的数字化建模和零件图绘制 5 月30日 ~ 6月15日撰写毕业论文、准备答辩 教学院长签字日 期 教研主任签字 日 期 指导签字 日 期 指导教师给定成绩(30%) 给定成绩(30%) 答辩成绩 （40%） , 发生侧向扩张,影响压印的精度, 另外在起模时模版也会对压印特征造成破坏。因此压印过程中必须保证模版与基片的平行度。 本文主要介绍了纳米压印光刻机承片台的结构设计，实现6英寸整片晶元的大面积压印光刻。首先从总体上介绍了纳米压印光刻技术的发展，论述了相关的课题背景，纳米压印原理、整片晶圆纳米压印的装置和方法以及模板与基片的平行原理。在压印过程中，最主要的问题是保证模板与基片的平行问题。对现有承片台的结构分析，被动适应承片台和主动适应承片台的比较，找出各自优缺点。 然后结合对纳米压印光刻承片台的理解提出自己的方案设计，即底座与承片台之间是球体接触，实现模板与基片的平行，采用真空吸紧的方法固定承片台。对承片台的整体结构设计，包括承片台的底座，承片台的材料、加工等，另外还对需要的真空吸盘及真空元件的选择。 最后用UG软件完成承片台数字化模型。 关键词: 压印光刻; 承片台；平行ABSTRACT Nano stamping photolithography technology is one kind of micro/nano structure can make the manufacturing technology, with low cost, high production efficiency and equipment simple features. In stamping, the main problem is the guarantee of the template and substrate parallel problems. when template press，Templates and substrate in is not parallel with the substrate, relative slip happens lateral dilation, affect the accuracy of the other stamped when in stripping stamped may also template feature causing destruction. Therefore stamping process must ensure template and substrate parallelism. This article mainly introduced the structure design of nano imprinting lithography and realize the six inches wafer of the large area stamping photolithography. First of all, from the overall introduced the nano imprinting photolithography technology development , discusses the related background of the topic, Nano imprinting principle,The whole piece of wafer nano pressure seal device and method And template and substrates of parallel principle. In imprinting process, the main problem is the guarantee of the template and substrate parallel