半导体制造术语表(hynix).docVIP

CHRG Corporate Human Resources Group 公司人力资源部 Chrome, Chromium 铬 一种金属元素。 1) 此种金属可作模板或掩模的不透明层。 2) 此种金属可用作芯片粘接合金或金属互连成份。 Ci Curie 居里 CIC Copper Invar Copper 铜-殷钢-铜 CIF 1) Cost Insurance Freight 到岸价格 2) Common Interchange Format 公共交换格式 CIFRE PhD students working in ST to preform their thesis. Stands for Conventi ons Industrielles de Formation par la REcherche. 在ST公司工作的撰写毕业论文的博士生。代表“Conventi ons Industrielles de Formation par la REcherche”。 CIM Computer Integrated Manufacturing 计算机集成制造 CIS Chemical Information System 化学信息系统 CISC Complex Instruction Set Computer 复杂指令集计算机 一种微处理器，与RISC处理器使用不同的数据处理方法。 CITES Convention on International Trade in Endangered Species of wild fauna and flora 濒危动植物国际贸易法 CKA Corporate Key Account 公司关键帐目 Top strategic customer/partner 最高级战略用户/合作伙伴 CKT Circuit 电路 Cl Chlorine 氯 CL Current Loop 电流环路 Clarification 净化 从废水中去除某种物质的过程。通常在水中使用净化器，这种装置或水箱可以对废水中的某种物质进行处理。 Class 等级 在半导体晶片制作中，“等级”一词指生产环境的清洁程度。使用相关数字(1000，100，10，1)表示一立方英尺空气中尘埃超过规定值的最大限量。 CLCC Ceramic Leaded Chip Carrier 有引线陶瓷芯片载体 Clean room 净化间 IC加工过程中要求对环境进行控制。必须控制环境区域内的气流、温度和湿度，定期对环境进行过滤可以使污染、温度、湿度保持在预先规定的范围内。 Cleanroom Class 净化间等级 FED-STD-209号政府规定，确定每种等级每立方空间尘埃的数量、尺寸、分布。 Clean technologies 净化技术 用于表示工艺技术的词，指比现有技术使用更少的自然资源与/或产生更少的废物或污染。 Cleanup 净化 对已确定的危害公众健康或环境的含有一定浓度的泄露物质，如水、土壤或蓄水层中污染的去除技术。净化通常分为本位净化或脱位净化。本位净化指不除去污染媒介进行处理。脱位净化指去除污染材料，或在设备上进行处理。净化技术通常用于：热处理，即对污染媒介加热到一定的温度消灭污染物；物理处理，即使用空气或水从污染媒介中提取污染物，再做进一步处理；化学处理，即使用溶液或其它化学品从污染媒介中提取污染物，再做进一步处理；生物处理，即选择微生物分解污染物。使用哪种技术取于污染类型和环境污染媒介的类型。 Clipwatt ST公司使用弹簧安装的塑料功率IC封装。 CLK Clock Clock 时钟 常指基于石英晶体的器件，配合器件的工作给出规律脉冲。 Closed autotest 闭合式自动测试 应用于智能卡的产品测试固件。 CLP Chlorine-Loading Potential 氯加载潜力 cm centimeter 厘米 CM Credit Memo 信用备忘录 CMB Chemical Mass Balance 化学质量平衡 CME Central Material Europe (located in St Genis) 欧洲中央材料处(位于St Genis) CMG Consumer and Microcontrollers Group 用户和微控制器组 ST的分部。最初称为PPG。 CML Current Mode Logic 电流型逻辑 CMM Capability Maturity Model 能力完备模型 CMOS Complementary MOS (Metal Oxide Semiconductor) 互补型金属氧化物半导体