负偏压对多弧离子镀TiN薄膜的影响-表面技术.PDF

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2017-08-23 发布于天津
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负偏压对多弧离子镀TiN薄膜的影响-表面技术

袁琳等负偏压对多弧离子镀薄膜的影响暋暋暋20 暋 TiN 负偏压对多弧离子镀TiN薄膜的影响 , , , , , 袁琳高原张维王成磊马志康蔡航伟 ( , ) 桂林电子科技大学材料科学与工程学院桂林 541004 [ ] , , 、摘要采用不同偏压在不锈钢表面进行多弧离子镀薄膜研究了偏压对薄膜表面形貌硬暋暋暋暋 201 TiN 、。 : , , , 度相结构及耐蚀性的影响研究表明薄膜表面存在着许多液滴颗粒随着偏压的增加液滴减少但过大的偏 ; , ; 压会使表面出现凹坑薄膜的显微硬度随偏压的升高先增大后减小偏压为-200V时的本征硬度为2195HV , , / , 在的溶液中薄膜试样的耐蚀性比基体略有提高在的溶液中偏压制 3.5% NaCl TiN 1molL HSO -100V 2 4 , 。备的试样耐蚀性最好比基材提高了475倍 [ ] ; ; ; 关键词多弧离子镀负偏压薄膜耐蚀性暋 TiN [中图分类号] [文献标识码] [文章编号] ( ) TG174.444暋暋暋 A 暋暋暋 1001灢3660201201灢0020灢03 EffectofNeativeBiasVoltaeonTiNCoatin Deositedb MAIP g g g p y , , , , , YUANLin GAOYuan ZHANGWeiWANGChen灢leiMAZhi灢kan CAIHan灢wei g g g ( , , , ) SchoolofMaterialScienceandEnineerin GuilinUniversitofElectronicTechnolo Guilin541004 China g g y gy [ ] Abstract暋TiNcoatinsof