射频电源有关问题的探讨.pdf

第 卷第 期 @@ A F 9@j@@-J9jA 年 月 真 空 FpGHHI BCCD E K=jBCCD 射频电源有关问题的探讨 黄启耀 姜翠宁 - 深圳新南亚技术开发有限公司 广东 深圳 ) - (’/#*, 摘 要 在射频溅射镀膜中 射频电源的反射功率偏大和靶打火一直是困扰行业的问题 本文从理论上说明射 ! - - 频系统和网络匹配问题 并结合实际和试验 讨论如何降低反射功率和减少靶打火的问题 并提供解决问题的 - - - 相关资料 以资说明 - . 关键词 射频 匹配 反射功率 打火 ! 0 0 0 中图分类号! 3 文献标识码! 文章编号!’##%#3)##$,#(%##$+%#3 12 2 456786659:9:69;=9?@;69ABC=9D6987 % - % EFGHI JKLMN OPGHI QRKSKST ) j- j - (’/#*- , UVWXYVWXZW[ Z\X]\^W_VX‘a‘b]cWdWa‘efWXghi kgl UVWXYVWX mn\Xbl‘Xb hVoX\ ! j p?6qr7q1stuv wtxytz{KST|N}twK~xNRS!{NNsKTsMS!xyM~sMwzNzzRw~!RwKSTuv xKy ~|R{{twKST!t|N~K{KNS 1st{}N |wN j #yt~sM$t#ttS|R%%yKST}Nw~sN|~xNwyNST 1stuv ~L~{t MS!St{}NwM{zsKST}twt{sR~!K~zR~~t!{stNwt{KzMyyL zN#KSKST|wMz{Kzt}K{s{t~{~{NzNS{wNy{stwtxytz{KST|N}tw~NM~{NMtK{}K{sKSMztw{MKSwMSTtMS!KSKK%t{stNzzRwtSzt j j NxxyM~sMwz 1stwt~Ry{~sN}t!{sM{{stuv~L~{t zMS#tK|wN$t! ! 0 0 ’(D9)6uv~L~{t wtxytz{KST|N}tw xyM~sMwz 直流溅射是制取导体 半导体膜的有效方法 但 电源镀制 膜 射频溅射装置的重点在于靶和匹 * - 9K: .