- 1、本文档共7页,可阅读全部内容。
- 2、有哪些信誉好的足球投注网站(book118)网站文档一经付费(服务费),不意味着购买了该文档的版权,仅供个人/单位学习、研究之用,不得用于商业用途,未经授权,严禁复制、发行、汇编、翻译或者网络传播等,侵权必究。
- 3、本站所有内容均由合作方或网友上传,本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺!文档内容仅供研究参考,付费前请自行鉴别。如您付费,意味着您自己接受本站规则且自行承担风险,本站不退款、不进行额外附加服务;查看《如何避免下载的几个坑》。如果您已付费下载过本站文档,您可以点击 这里二次下载。
- 4、如文档侵犯商业秘密、侵犯著作权、侵犯人身权等,请点击“版权申诉”(推荐),也可以打举报电话:400-050-0827(电话支持时间:9:00-18:30)。
- 5、该文档为VIP文档,如果想要下载,成为VIP会员后,下载免费。
- 6、成为VIP后,下载本文档将扣除1次下载权益。下载后,不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
- 7、成为VIP后,您将拥有八大权益,权益包括:VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
- 8、VIP文档为合作方或网友上传,每下载1次, 网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等,对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档
查看更多
太原理工大学学报投稿模板.
本模板由不同论文拼凑而成,请主要关注格式和规范要求,忽略内容上的前后不对应
请单栏排版
TiO2纳米颗粒的制备、光催化性能及羟基自由基研究
标题题目应恰当简明地反映论文内容,精确点明本文的独创性内容摘 要:内容应包括目的、方法、结果和结论;缩写词第一次出现时请用全称;不要出现公式、图表和参考文献序号。针对金属层间介质以及MEMS等对氧化硅薄膜的需求,采用等离子增强型化学气相淀积(PECVD)技术,以SiH4和N2O为反应气体,低温制备了SiO2薄膜。利用椭偏仪、应力测试系统对SiO2薄膜的厚度、折射率、均匀性以及应力等性能指标进行了测试,探讨了射频功率、反应腔室压力、气体流量比等关键工艺参数对SiO2薄膜性能的影响。结果表明:SiO2薄膜的折射率主要由N2O/SiH4的流量比决定,而薄膜均匀性主要受电极间距以及反应腔室压力的影响。通过优化工艺参数,低温260℃下制备了折射率为1.45~1.52中文环境下,用波浪线表示数字范围,均匀性为±0.64%,应力在 ?350~?16 MPa量、单位和符号严格执行国家标准,不可使用非法定计量单位可控的SiO2薄膜。采用该方法制备的SiO2薄膜均匀性好,结构致密,沉积速率快,沉积温度低,且应力可控,可广泛应用于集成电路以及MEMS器件中。
关键词:二氧化钛纳米颗粒;聚丙烯酰胺凝胶法;羟基自由基;光催化活性
关键词应能够反映论文的主题内容, 应精确、包含热点信息;注意避免与正文标题重复太多, 以增大论文通过不同角度被检索到的可能性;以3~8个为宜,用分号分隔
中图分类号: 文献标志码:A 文章编号:1672-6030(2013)00-0000-00
(可列出一个或一个以上中图分类号,按《中国图书馆分类法》确定)
Preparation, Photocatalytic Properties and Photogenerated Hydroxyl Radicals of TiO2 Nanoparticles
给出英文标题, 内容应与中文对应, 语序可根据中英文逻辑习惯方面的不同进行相应的调整WEI Qin1,2,WU Dan2, ZHANG Xu zhen2, LI Chao2
(姓全部大写)
Abstract: To meet the demand of inter-metal dielectric (IMD) 缩写词第一次出现时请用全称(并将缩写写在全称后面的括号中)layers and micro electro mechanical systems (MEMS), silicon dioxide films deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) at low temperature with silane (SiH4) and nitrous oxide (N2O) as precursor gases was reported. The ellipsometer and stress measurement system were used to test the thickness, refractive index, uniformity and the stress of SiO2 film, and the effects of ratio frequency (RF) power, chamber pressure and N2O/SiH4 flow ratio on the properties of SiO2 film were studied. The results showed that the refractive index of SiO2 film was mainly determined by N2O/SiH4 flow ratio and the uniformity of the film was influenced by the distance between electrodes and the chamber pressure. Moreover, by optimizing the process parameters, the SiO2 films were deposited at 260 ℃, with the refractive index measured as 1.45—1.52(英文环境下,数字区间用长划线表示), the uniformity of ±0.64%, and the stress was efficiently controlled between ?350 MPa to ?16 MPa.
您可能关注的文档
- 土木工程试题+模拟题(含答案)..doc
- 土建基础习题集答案..doc
- 土壤检测标准..doc
- 土钉墙施工工艺..doc
- 在全市长江河道采砂座谈会上的讲话..doc
- 在租赁土地上建房的房屋所有权归属问题..doc
- 地下室筏板基础钢筋绑扎技术交底..doc
- 地下室腻子乳胶漆施工技术交底..doc
- 国际货运代理实训报告修订第三版..doc
- 地下室防渗漏施工方案..doc
- 2025年注册会计师考试《会计》会计分录专项练习模拟试题集.docx
- 2025年北京市朝阳区高二(下)期末考试化学试卷(含答案).pdf
- 2025年北京市朝阳区高一(下)期末考试英语试卷(含答案).pdf
- 2025年注册会计师考试《会计》全真模拟实战试题精选解析汇编.docx
- 2025年注册会计师考试《会计》易错陷阱预测模拟试题解析手册.docx
- 2025年期货从业资格考试法律法规与金融衍生品知识试题试卷.docx
- 粮食安全责任制培训课件.ppt
- 《平行线(第1课时)》说课稿.docx
- 《平行线(第2课时)》说课稿.docx
- 2025年注册会计师《会计》实战试题精选与深度解析指南集宝典攻略试卷.docx
最近下载
- 塑造职业形象(共83张课件).pptx VIP
- 幼儿园小班科学游戏《认识三角形》PPT课件.pptx VIP
- 干热灭菌--去热源 USP、CP、EP关于干热去热原的温度时间要求.pdf VIP
- 人教版八年级上册英语 Unit 1 Happy Holiday Section B 1a-1d 练习题(含答案).doc VIP
- 110kV及以上送变电工程启动及竣工验收规程.docx VIP
- 2012年《园艺植物学》课程教学大纲.doc VIP
- 安联安享金生终身年金保险分红型产品培训.pptx
- 安联安享丰年年金保险分红型.pptx VIP
- 2025年必威体育精装版征信报告可编辑模版1.pdf
- 2025年全球储能市场区域分布与竞争格局报告.docx VIP
文档评论(0)