微影制程 - 高雄第一科技大学.PDF

微機電系統導論─微影製程 1 National Kaohsiung First University of Sci. Tech. 微影製程 Lithography 余志成 高雄第一科技大學機械系 Department of Mechanical and Automation Engineering National Kaohsiung First University of Science and Technology Micro-Electro-Mechanical System Lab. NKFUST Clean Room Particles Humidity Vibration Pressure Electromagnetic wave Static De-Ionized water MEMS Lab. 2 國立高雄第一科技大學機械系 余志成 2005 微機電系統導論─微影製程2 NKFUST 無塵室等級 塵粒控制 HEPA過濾 洗手→戴口罩→戴無塵帽→穿無塵衣→穿無塵鞋→戴塑膠手 套→用空氣清洗 日本：每立方英呎室內之空氣 美國：每立方英呎室內之空氣 所含有大於或等於0.1 μm之微 所含有大於或等於0.5 μm之微 塵粒子顆數 塵粒子顆數 級別 1 不超過101顆 Class 1 不超過1顆 級別2 不超過102顆 Class 10 不超過10顆 級別3 不超過103顆 Class 100 不超過100顆 4 級別4 不超過10 顆 Class 1000 不超過1000顆 MEMS Lab. 3 NKFUST 無塵室的控制項目 溫度：22°±2° ，濕度50 ±5% 振動：增加廠房質量以吸收能量 水的控制：去除雜質以避免短路、缺陷，控制水中離子濃度(DI water)以避免與化學藥品或晶圓直接發生反應。 氣體控制：製程使用氣體（N , Ar, O , H , SiH ）若含有不純物可 2 2 2 4 能造成元件漏電或破壞氧化薄膜。 電磁波：可能造成設備功能失常，可採用電磁遮蔽的金屬包覆空 間以隔絕電磁波 靜電：靜電會吸附顆粒，造成晶圓線路短路，而靜電放電會引爆 可燃氣體